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【展商推荐】山东赛利科膜科技邀您出席2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会
372 2026-11-05

       中国粉体网讯 高纯碳化硅粉体作为制备碳化硅单晶衬底、高端特种陶瓷、导热材料等的关键基础原材料,其纯度、粒径、晶型等物化指标直接影响下游产品的质量与性能。当前,碳化硅在新能源汽车、光伏储能、5G通信、AI大数据、航空航天等领域快速渗透,市场应用空间持续拓展。

       为打通高纯碳化硅粉体上下游产业链壁垒,搭建产学研用深度协同创新交流载体,攻克行业共性技术瓶颈,推动产业降本增效、规模化高质量自主供应,2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会将于2026年11月26日在江苏苏州举办。山东赛利科膜科技有限公司作为参展单位邀请您共同出席。



山东赛利科膜科技有限公司是一家专注于碳化硅陶瓷膜、EDI电驱动脱盐膜块、RCF可再生高级氧化催化剂等先进水处理核心产品的设计、开发与销售的高新技术企业,这些创新技术适用于处理具有挑战性的水域。赛利科多样化的产品组合包括碳化硅陶瓷平板、柱状、管状膜和EDI、RCF以及海水淡化设备等。


产品介绍


1、EDI超纯水设备



EDI 原理


电去离子(Electrodeionization,EDI)是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术,它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除,从而达到水纯化的目的。它具有技术先进、操作简便和优异的环保特性,是纯水制备技术的绿色革命。


产品参数表

型 号 Type

SMT-500

SMT-1000

SMT-2000

SMT-3000

SMT-5000

尺寸L*W*H

300*301*601mm

307*301*601mm

504*301*601mm

701*301*601mm

1000*301*601mm

产水流量(T/H)

0.5

1.0

2.0

3.0

5.0

产水最高流量(T/H)

0.67

1.65

2.8

4.2

6.8

回收率 (%)

90-95

90-95

90-95

90-95

90-95

产水电阻率(MΩ.cm)

≥16

≥16

≥16

≥16

≥16

工作电压(DCV)

0-200

0-200

0-240

0-320

0-400

工作电流 (DCA)

0-2

0-2

0-3

0-3

0-5

进水压力(MPa)

0.1-0.3

0.1-0.3

0.15-0.4

0.15-0.4

0.22-0.4

最大压力(MPa)

0.7

0.7

0.7

0.7

0.7

淡水/产水接管尺寸

DN32

DN32

DN32

DN32

DN32

浓水进/出接管尺寸

DN20

DN20

DN20

DN20

DN20

※非标准产水量模块可定制


2、碳化硅膜组件



碳化硅平板膜,膜面积可以达到6平方米/组,多个组件可以堆成膜塔,堆叠可达12层,多堆并行布置,节约占地空间,维护方便。


3、碳化硅柱式膜



赛利科Z系列碳化硅柱式超滤膜是以碳化硅陶瓷膜为过滤单元,过滤精度为0.1微米。具有耐化学性强,亲水性好,不易老化,使用寿命长等特点



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会务组


       联系人:段湾湾
       电 话:13810445572(同微信)
       Email  :duanwanwan@cnpowder.com