以Nb2O5和KOH为原料,采用水热法成功制备了铌酸钾(KNbO3)织构陶瓷用的片状模板粉体K8Nb6O19.10H2O。通过X射线衍射分析(XRD)、扫描电镜(SEM)分析了粉体的晶相和表观形貌,考察了水热反应条件和表面活

用共沉淀法正滴和反滴工艺制备了掺钕钇铝石榴石(Nd:YAG)粉体。测试了粉体的相组成、显微形貌、粒度分布。结果表明:经1100℃煅烧后,正滴工艺得到粉体主相为YAG(Y3Al5O12),但有少量的YAM(Y4Al2O9),反

采用KH-550硅烷偶联剂对SiC粉体表面进行改性,得到了改性最佳工艺参数,分析了表面改性对SiC浆料分散稳定性的影响。结果表明:SiC微粉经硅烷偶联剂处理后没有改变原始SiC微粉的物相结构,只改变了其在水中的胶体性质;减少

利用减压等离子体活性烧结制备了碳化硅涂层。研究了不同等离子体气流流量、真空室压力、电源功率、基板距离等工艺参数组合对涂层质量的影响规律。通过正交实验确定了优化工艺参数组合,在Φ50mm以及50×50mm的较大石墨基板上获得了

在纳米炭黑中添加微米碳化硅制备了一种新型的复合吸收剂,并进行形貌表征、导电性能和微波吸收性能的测试。测试结果表明:加入碳化硅使得炭黑/环氧树脂复合涂层体电阻率和渗流阈值降低;炭黑含量较小时,加入碳化硅能有效提高涂层的反射衰减

研究了合成条件对制备多孔阳极氧化铝膜(AAO)的影响,电压和电解液温度对AAO的形成及孔径的有序度影响显著,40V电压下模板孔的规则性及有序性较优;电解液温度不宜超过25℃;二次阳极氧化及适当扩孔比一次阳极氧化制备的AAO的

以金属铝为阴极材料,以3mol·L-1浓度的NH4NO3水溶液为电解液,采用非对称电极阴极等离子体电解方法制备出氧化铝纳米颗粒.采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线能量色散谱(EDX)、X射线衍射(

采用硅烷偶联剂对纳米Al2O3进行表面处理并在聚酰亚胺(Polyimide)基材表面制备出纳米氧化铝增强有机硅涂层。用热阴极灯丝放电产生的氧等离子体来模拟原子氧环境,研究了有机硅涂层的质量损失、表面形貌及化学成分的变化。结果

引用嵌段共聚物作软模板剂和乙醇作结构调节剂来制备介孔氧化铝,结合XRD、SEM、N2吸附对的产物形貌、比表面积、孔容、孔径进行分析。通过UV紫外分光光度计检测样品对有机污染物(如刚果红)的分离能力。

文章主要简要介绍了氧化铝焙烧工艺过程的控制指标及要求,并着重介绍了该过程回路的控制策略,其中以焙烧炉温控制回路为例,提出流量-温度串级控制方案。