浅析碳化硅陶瓷在半导体行业的应用与研究进展
487
2025-11-21
编号：CYYJ04446
篇名： 浅析碳化硅陶瓷在半导体行业的应用与研究进展
作者： 和娇娇；关嘉豪；王萌
关键词： 碳化硅陶瓷; 半导体; 应用; 发展;
机构：咸阳陶瓷研究设计院有限公司
摘要： 笔者系统论述碳化硅(SiC)陶瓷的晶体结构特征、物理化学性质及其跨领域应用，着重分析其在半导体制造设备、功率器件及新能源领域的关键技术突破。研究显示，SiC材料凭借其独特的宽禁带特性(Eg=3.3eV)和热力学稳定性(Tm=2 830℃),正在推动半导体产业向高温、高频、高功率方向革新。笔者同时对比国内外技术研究现状，提出碳化硅产业的未来发展方向和解决方案。
