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分散剂对亚微米氮化硅粉体分散性能的影响
2029 2014-03-26
编号:FTJS03991
篇名: 分散剂对亚微米氮化硅粉体分散性能的影响
作者: 梁博; 韩凤兰;
关键词:分散剂; 亚微米; 氮化硅; 沉降行为;
机构:北方民族大学材料科学与工程学院;
摘要: 本文利用研磨机将氮化硅(Si3N4)粉体研磨至亚微米级,并分析分散剂对Si3N4颗粒粒度的影响。从四甲基氢氧化铵(TMAH)、六偏磷酸钠(SHMP)和Darvan-c这三种分散剂对亚微米Si3N4分散性能的曲线图中可以看出,TMAH、SHMP和Darvan-c都有很强的抑制沉淀的作用,对亚微米Si3N4的分散效果较好。SHMP的加入量在1%时出现最佳值,随着加入量的逐渐增加,亚微米Si3N4的分散效果也逐渐变差。比较这三种分散剂,0.4%的Darvan-c对亚微米Si3N4的分散效果优于1%的SHMP和0.8%的TMAH对Si3N4的分散效果。
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