工业窑炉是支撑现代工业体系与材料革新的核心热工设备‌，在推动产业升级、节能减排和高端制造方面发挥着不可替代的作用。

苏州锦业源自动化设备有限公司，作为国内领先的工业窑炉解决方案提供商，凭借深厚的技术底蕴与创新能力，正成为推动工业窑炉发展的核心力量。

2026年10月28-30日，苏州锦业源自动化设备有限公司将携其产品亮相IPIE2026上海国际高端粉体装备与科学仪器展览会，展位号：B1028，为全球客户提供高性能的窑炉设备解决方案。

01 技术创新为驱动，客户需求为导向

苏州锦业源自动化设备有限公司（隶属于锦源科技控股有限公司）成立于2011年8月，是一家高新技术公司，融合了多家国内外工业窑炉方面的先进技术及经验，为现代新型电子元器件、电子材料、新光源、新能源以及金属材料热处理领域的发展作出贡献。

公司发展至今，培养了具备核心竞争力的人才团队，拥有具备专业素养的若干售前、售后及销售人员，可积极快速响应客户要求并提供优质、高效、称心的服务，为客户创造价值，赢得效益。

02 全系列布局，赋能多领域高端制造

1、LTCC 铜基连续烧结炉

设备用途：

LTCC 铜基连续烧结炉主要用于LTCC 多层陶瓷与铜金属的批量化烧结；

电子浆料的烘干；

电子浆料的烧结；

LTCC-Cu电极的烧成；

电子陶瓷基片铜电极的烧成；

氧化铝基座的钎焊。

设备规格：

最高温度：1000℃ (可定制)

炉膛有效尺寸：L6560xW635xH40mm

炉膛气氛：空气/氮气/氮气+氢气(加湿气体)

加热元件：OCr27A17M02

2、氧化铝推板炉(HTCC)

设备用途：

氧化铝基座的排胶、烧成；PTC的烧成；压电陶瓷的排胶、烧成；环形压敏电阻的排胶、烧成；MLCC-Ni基片的烧成；电子粉体的烧成；氧化铝陶瓷基板的烧成；Mn-Zn铁氧体陶瓷的排胶、烧成；Ni-Zn铁氧体陶瓷的烧成；Mn-Zn基片的排胶、烧成；荧光粉的烧成；锂电池粉体材料的烧成；电池负极材料的烧成；磷酸铁锂的烧成。

设备规格：

炉膛尺寸：500WX250HX15180Lmm

炉膛有效尺寸：260WX200HX151800Lmm

最高温度：1650℃

常用温度：1600℃

加热功率：约270KW

加热元件：Fe-Cr Mo(W type)

3、高温金属钟罩炉

设备参数：

有效温区尺寸：φ500xH800/φ450xH600

加热器：钨带/钨网

隔热屏材料：金属钨钼/钽

最大装炉量：600Kg/400kg

最高设计温度：2000℃/2700℃

极限真空：8x10-1Pa~5x10-5Pa

温度均匀性：士5℃

加热功率：270KVA/210KVA/370KVA

升温速率：0~30℃/min(可调)

工艺气氛：真空/氮气/氩气/氢气

炉内压力：≤压力0.05Mpa

设备用途：

特种陶瓷的脱脂烧结

纯化金属

金属及非金属粉末烧结

4、高温石墨烧结炉

设备用途：

电子陶瓷金属共烧(氮化铝、氧化铝、氧化铍等)

钨金属纯化、石墨纯化、陶瓷金属化、蓝宝石长晶等；

退火、烧结；氮化铝长晶。

设备规格：

有效区：卧室-石墨热场(Graphitebox):410x410x600/410x410x1800

加热器：石墨管/钨网/钨板式

隔热屏材料：超高纯石墨化硬毡/钨钼复会屏

最大装炉量：300kg~1000kg

最高设计温度：2050℃~3000℃

极限真空：5pa

温度均匀性：±5℃

工艺气氛：氨气/氢气/氩气/氟

充气压力：≤0.05mpa

5、氮化硅压力炉

设备用途：

氮化硅基板，氮化硅球以及结构件的烧结。

设备特点：

温度：max2400摄氏度

温度分布精度：R10

发热体：石墨

压力：1Mpa

气氛：N2环境，氧含量小于100ppm

6、氮化硅，氮化铝粉体量产炉

设备用途：

氮化硅，氮化铝，氮化硼等粉体量产烧结。

设备特点：

温度：2300摄氏度

电力：55KW

温度分布精度：R10

发热体：石墨

压力：微正压

气氛：N2环境，氧含量小于100ppm

苏州锦业源自动化设备有限公司致力于为全球客户提供更高效、更稳定、更智能的工业窑炉解决方案，助力高端制造产业升级。

2026年10月28-30日，上海跨国采购会展中心，期待与您相聚，共话粉体产业的未来！

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